钛靶材，由高纯度钛锭熔炼制备而成，适用于溅射镀膜，在半导体芯片、MEMS传感器、光电器件、宽禁带半导体、石墨烯等行业领域应用广泛。
一、主要用途：
适用于磁控溅射制备钛薄膜
二、适用领域：
1、适用溅射设备品牌：
A.适用设备：单靶溅射系统，双靶溅射系统，JC500型磁控溅射仪，DE300DL 磁控溅射系统
B.适用设备品牌：
国产品牌：南光机器厂、北京仪器厂、金盛微纳、沈阳科仪、JK-LASKER、微电子所等品牌
2、常规尺寸：
1.直径：1英寸，2英寸，3英寸，4英寸，5英寸等不同直径
2.厚度：1mm，2mm，3mm，4mm等尺寸可定做
三、产品详细价格：
货号 | 产品名称 | 规格 | 包装 | 数量 | 交货期 | 备注 |
Ti-ST4501I | 钛 靶材 | 99.995% 15*15*1mm（日本进口料） | 片 | 10 | 7-10个工作日 |
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Ti-T4535I | 钛 靶材 | 99.995% φ60*5mm（日本进口料） | 片 | 1 | 7-10个工作日 |
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Ti-T4545I | 钛 靶材 | 99.995% φ75*5mm（日本进口料） | 片 | 1 | 7-10个工作日 |
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Ti-T4586I | 钛 靶材 | 99.995% φ101.6*6mm（日本进口料） | 片 | 1 | 7-10个工作日 |
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Ti-ST4502I | 钛 靶材 | 99.995% 100*80*5mm（日本进口料） | 片 | 1 | 7-10个工作日 |
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备注：以上均为含税含运费价格，13%增值税发票，发票随货寄。
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